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光刻膠 |
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指針式 |
用于高分辨率電子束曝光、單層 / 多層 lift-off 工藝、 石墨烯 / 碳納米管轉移、絕緣保護層等
? 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)
? 高分辨率 (< 10nm)，高對比度
? 多種分子量：50K、200K、 600K、 950K
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? 多種固含量實現了多種涂膠厚度
? 可定制特殊用 PMMA 膠
? 用于高分辨率電子束曝光等
? 感光波段：e-beam
? 高分辨率 (< 10 nm)， 高對比度 (14)
? 高深寬比，高工藝穩定性
? 的耐干法刻蝕能力
? 采用不同的顯影液 (AR 600-546/ 548/ 549)，可實現 不同程度的靈敏度
? 可實現 Lift-off 工藝，操作簡單
AR-P617 PMMA/MA共聚物 | 適合目前各種應用需要的電子束光刻膠。靈敏度高，是普通PMMA膠的3~ 4倍，對比度亦PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通過雙層工藝實現lift-off工藝。 |
PMMA（是電子束曝光工藝中常用的正性光刻膠，是由單體甲基（ate, MMA）經聚合反應而成。 PMMA膠主要的特點是高分辨率、高對比度、低靈敏度。 PMMA膠種類，不同的系列中包含了各種分子量（50K, 200K, 600K, 950K），各種溶劑（以及各種固含量的PMMA膠，以滿足各類電子束光刻的工藝要求。 PMMA膠可用于單層或雙層電子束曝光、轉移碳納米管或石墨烯、絕緣層等多種工藝。 （注：工廠可根據用戶的需求，定制所需分子量、固含量的PMMA膠。） |
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