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495 PMMA A4 |
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PMMA(polymethyl 是一種非常適合許多成像和非成像微電子應用程序的聚合物材料。通常用于電子束工藝曝光，如T-gate制造。還用于臨時晶片接合工藝如晶片減薄，用作保護層和臨時粘合劑。
PMMA光刻膠是PMMA聚合物被溶解在特定的分子量溶劑中，，然后過濾。傳統曝光，直接寫曝光或X-射線曝光使聚合物的斷鏈，從而在光刻膠的曝光和未曝光區域之間產生溶解度差異，實現非常高分辨率的圖像。
PMMA的分類：
1）PMMA 495 A系列
2）PMMA 495 C系列
3）PMMA 950 A系列
4）PMMA 950 C系列
PMMA特性：
2）非常適合于電子束光刻和X射線曝光
3）高分辨率：<0.1um，PMMA 950適用于高分辨率的應用，PMMA 495則相對較低
4）廣范圍分子量和粘度
應用：電子束光刻、多層T-Gate剝離、晶圓減薄等。
相關溶液：
1）顯影液：MIBK:IPA
2）
3）稀釋劑：A Thinner
主營業務：顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲存、化學試劑、國產試劑、半導體材料、電子材料、銳材表面活性劑
代理美國PTI公司雜質顆粒尺寸分析試驗、檢測設備及各種試驗粉塵。
代理德國DMT公司的符合IEC 60312標準的試驗粉塵。 同時，公司還代理進口日本JIS標準試驗粉塵。 滿足國內汽車零部件、光纖，電子等行業企業的實驗室以及一些立檢測機構對于進口試驗粉塵的需求。
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