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光刻膠 |
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結構型式 |
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指針式 |
IP100 系列 I 線膠主要應用于無線設
備、光電子芯片、MEMS 等領域，作為微米、
亞微米光刻圖形轉移掩膜保護層。
INTRODUCTION
IP series I-line photoresist mainly used
in IC manufacture such as wireless devices, optoelectronic chips,MEMS.etc,As a pattern
transfer mask&protective layer in the micron
and sub-micron lithography process . 產品性能
? 高分辨率(0.35umL/S);
? 優良的耐熱性能&粘附性;
? 的涂布均勻性;
? 良好的儲存穩定性;
? 多種不同粘度型號;
? I 線及寬譜曝光兼容
主營業務：顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲存、化學試劑、國產試劑、半導體材料、電子材料、銳材表面活性劑
代理美國PTI公司雜質顆粒尺寸分析試驗、檢測設備及各種試驗粉塵。
代理德國DMT公司的符合IEC 60312標準的試驗粉塵。 同時，公司還代理進口日本JIS標準試驗粉塵。 滿足國內汽車零部件、光纖，電子等行業企業的實驗室以及一些立檢測機構對于進口試驗粉塵的需求。
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