NH3脫銷氨逃逸品牌http://www.sdxzyq.com

TK-1100激光氨氣分析儀是基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)原理，對1512nm處的氨氣吸收譜線進行掃描分析，并采用數(shù)字化的鎖相放大器和長光程氣室等技術(shù)實現(xiàn)了氨氣的低濃度測量。激光氨氣分析儀根據(jù)測試條件的要求選取抽取式安裝方法，維護簡單，可滿足SCR/SNCR脫硝工藝中對注入氨或逃逸氨檢測的需求。

TK-1100激光氣體分析儀采用二極管激光吸收光譜技術(shù)，TDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)是可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)的簡稱，由于該二極管采用半導(dǎo)體材料制成，通常又稱為可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)。TDLAS是通過分析光通過氣體時的選擇吸收來測得氣體濃度。大多數(shù)氣體只吸收特定波長的光。激光的發(fā)射波長隨二極管溫度和電流的變化而改變，激光二極管安裝了半導(dǎo)體制冷器和溫度傳感器使得發(fā)射波長穩(wěn)定。

技術(shù)指標(biāo)
測量氣體   可測量NH3、HCI、CI2、HF等（需定制）
測量范圍   0-50ppm，量程可選
零點漂移   ≤5%FS.
量程漂移   ≤5%FS.
預(yù)熱時間   60min
響應(yīng)時間   ≤90s（T90）
電壓影響   ≤1%
絕緣電阻   ≥20 M

絕緣強度   無電弧和擊穿等異常現(xiàn)象
顯示窗口   7”高清晰真彩數(shù)字屏，分辨率為800X480
通訊接口   RS232、RS485、4路開關(guān)量輸出、2路4-20mA模擬輸出
電源需求   AC180～240V，50Hz，60W
工作溫度   -10℃～50℃
工作濕度   ＜90%RH
外型尺寸   機柜1000mm* 1600mm* 600mm
安裝方式   采樣探頭可與9英寸ANSI標(biāo)準(zhǔn)法蘭對接

氨注入的過少，就會降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū)，逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上，會造成嚴重的設(shè)備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護費用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴重的問題。

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